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国巨电容薄层化工艺对MLCC容量密度

作者: 深圳市昂洋科技有限公司发表时间:2026-01-29 14:54:13浏览量:24

国巨电容的薄层化工艺通过降低介质层厚度、提升叠层精度与层数,显著提高了MLCC的容量密度,同时结合材料优化与工艺创新,在小型化、高频性能及可靠性方面实现了综合突破,具体分析如下: 一、薄层化工艺...
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国巨电容的薄层化工艺通过降低介质层厚度、提升叠层精度与层数,显著提高了MLCC的容量密度,同时结合材料优化与工艺创新,在小型化、高频性能及可靠性方面实现了综合突破,具体分析如下:



一、薄层化工艺的核心机制:介质层厚度与叠层数的双重优化


国巨的薄层化工艺通过以下方式突破容量密度极限:


介质层厚度压缩:


采用先进流延技术,将陶瓷膜片厚度减薄至0.13mm(0201封装)和0.2mm(0402封装),较传统MLCC减薄40%。


薄层介质(<3μm)结合RHK快速烧结工艺(25℃/min),实现内电极与陶瓷介质共烧,减少电极团聚和孔洞,提升介质致密性,进一步降低有效厚度。


叠层数与对位精度提升:


叠层层数突破1000层,通过高精度叠层设备(对位精度±0.1mm)确保上下电极正对面积最大化,避免移位导致的容量损失。


优化叠层温度与压力参数,在薄化介质的同时控制巴块厚度,平衡容量与机械强度。


二、容量密度的量化提升:数据支撑与工艺协同


容量范围扩展:


国巨MLCC覆盖10nF~200nF容量,耐压范围4V~25V,满足工业电机控制中电源滤波、信号耦合等场景需求。


例如,0201封装MLCC在0.6×0.3mm尺寸下实现高容量,单位体积容量密度较传统产品提升30%以上。


高频性能优化:


薄层化降低寄生电感至传统贴装MLCC的1/5,显著提升高频响应(如1GHz频率下ESR≤50mΩ),适配工业电机控制中高速数字电路与射频电源去耦需求。


可靠性保障:


铜电极镀层技术增强导电性与机械强度,降低ESR,优化瞬态电流承载能力,确保电源网络完整性。


X5R介质材料在-55℃~85℃宽温域内保持稳定性能,适应工业环境温度波动。


三、工艺创新与成本效益的平衡


材料与工艺协同:


配料工艺优化瓷浆粒度与比表面积,提升烧结致密性;流延过程控制陶瓷膜片厚度均匀性,避免容量分散。


丝网印刷技术确保内电极图形清晰,减少电极渗开导致的容量命中率偏差。


生产效率与成本控制:


全自动生产线与薄层化工艺结合,降低材料成本(如陶瓷粉末用量减少)和生产成本(如叠层效率提升),实现高性价比。


支持非标尺寸、容值及电压定制,快速响应工业电机控制领域差异化需求,缩短研发周期。


四、工业电机控制中的典型应用场景


变频器电源滤波:


国巨MLCC用于抑制电源波动,其高容量密度在有限空间内提供稳定滤波效果,提升电机驱动效率。


电机驱动器信号耦合:


薄层化MLCC的低寄生电感特性减少信号传输损耗,确保控制信号精准传递,提升电机响应速度。


高温环境适配:


结合X5R介质材料与铜电极技术,MLCC在工业炉、压缩机等高温场景中保持容量稳定,延长设备寿命。
2026-01-29 24人浏览